英特尔3亿美元抢购ASML最先进EUV光刻机
【锚思科技讯】今天的重磅消息除了微软687亿美元收购动视暴雪之外,还有英特尔花3亿美元定下了ASML TWINSCAN EXE:5200光刻机。
TWINSCAN EXE:5200光刻机是ASML的高NA(数值孔径)EUV光刻机,其吞吐量超每小时220片晶圆(wph)。从路线图来看,EXE:5200预计最快2024年底投入使用,2025年开始大规模应用于先进芯片的生产。
0.55NA的分辨率从0.33NA光刻机当然13nm升级到8nm,可以更快更好地曝光更复杂的集成电路图案,突破0.33NA单次构图32nm到30nm间距的极限。
第一代高NA光刻机EXE:5000会率先用于3nm节点,至于EXE:5200,按照Intel的制程路线图,2025年至少是20A或者18A(A代表埃米),也就是2nm和1.8nm或者20埃米和18埃米。
ASML发言人曾对媒体透露,更高的光刻分辨率将允许芯片缩小1.7倍、同时密度增加2.9倍。未来比3nm更先进的工艺,将极度依赖高NA EUV光刻机。
Intel在制造工艺方面稍逊台积电一筹,但它并没有放弃自己制造芯片,这次斥巨资购买最先进的光刻机足以看到其决心。